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近日，荷蘭相關部門宣布，對部分先進半導體制造設備實施新的出口管制措施，此舉明顯針對中國，而直接影響就是中國獲得荷蘭ASML公司的DUV光刻機也更為困難。
這個事情肯定是在美國的鼓搗下進行的，美國近年來一直拉攏荷蘭、日本形成一個“芯片聯盟”，以此來壓制中國芯片領域發展。目前來看，美國的陰謀正一步步得逞，日本已在今年5月正式出臺了關于半導體制造設備出口管制措施。日本方面給出的理由是“為了與美國合作，防止這些技術流向中國，從而被用作軍事用途”。而荷蘭這次給出的理由居然與日本一樣，荷蘭貿易部長施萊納馬赫聲稱，這些設備可能用于生產軍事器材，“為了維護國家安全，我們決定采取這項措施。”
荷蘭究竟干了什么呢？其實就是要求荷蘭公司出口光刻機時必須獲得許可證，才能把有關設備賣到海外。
全球最大的光刻機巨頭、荷蘭ASML公司表示，預計它的第二先進等級的DUV光刻機也需要出口許可證。這些設備用于制造電腦芯片。
荷蘭已經禁止ASML公司對中國出售EUV光刻機和部分浸潤式DUV光刻機。所謂浸沒式光刻機，屬于193nm（光源）光刻機（分為干式和浸沒式），可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造。
ASML公司官網信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產品共有三款設備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款之前已被禁止。
據報道，ASML的四個浸沒式光刻系統中的三個將受到新規則的限制。根據波長劃分，DUV設備有四種產品序列，分別為ArFi、ArF、KrF、i-line，最高端的是ArFi，這也是ASML目前被主要限制的DUV光刻機范疇。ArFi、ArF屬于第四代光源技術，波長為193nm，采用浸潤技術，但這中國將買不到這種浸潤式光刻機，因為美國和荷蘭認為這些浸潤式光刻機可以用于制造小于28納米的芯片。
新措施定9月1日生效這對中國來說是一道分水嶺，今后中國將更難買到荷蘭ASMK公司的光刻機了。
（責任編輯：韓麗）
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